半導體工業純水設備工藝流程講解

文章作者: 宏森環保

 　 眾所周知，半導體工業對于純水的水質要求是及其嚴格的，大部分的電子產品，如計算機、移動電話或是數字錄音機當中的核心單元都和半導體有著極為密切的關聯， 因此無論從科技或是經濟發展的角度來看，半導體的重要性都是非常巨大的。

　　今天來簡單講解一下關于：半導體工業純水設備工藝流程;

　　半導體工業純水設備常采用的水處理工藝是電去離子EDI系統：

　　電去離子也就是常說的EDI，EDI系統采用的是一種離子交換技術，子交換膜技術和離子電遷移技術相結合的純水制造技術。

　　最新的水處理工藝流程(≥18MΩ.CM)：

　　原水預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象。

　　傳統的水處理工藝流程(≥18MΩ.CM)：

　　原水預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象。

　　采用EDI系統制取純水的優勢有：

　　1、EDI凈水設備具有連續出水;

　　2、設備在運行期間沒有加入化學藥劑，無需酸堿再生;

　　3、設備采用的是全自動的控制模式，因此可達到無人值守;

　　4、設備安裝方便：EDI系統采用積木式結構，依據場地的高度和窨靈活地構造;

　　以上是小編整理的關于半導體工業純水設備工藝流程講解，如想了解關于半導體工業純水設備水質為17MΩ.CM、15MΩ.CM等的水質工藝流程可到宏森環保進行詳細的資料查詢。